3M™ CMP研磨墊修整毛刷，具有無金屬結構以及購買成本低的特點，用於化學機械研磨（CMP）buff工藝及研磨墊清潔應用。
- 耐用且無金屬：採用3M公司專有的刷子製造技術，刷毛獨立固定並均勻分佈於刷子表面。
- 非常適用於柔軟的CMP研磨墊：刷毛堅硬，可清除多孔氈基墊上的碎屑。
- 低成本：高效清潔研磨墊，有效分配研磨液。
3M™ CMP研磨墊修整刷
- 3M, 半導體
CMP製程
Cu (Barrier), Final Buff, W (Buff)
底座型態
砂盤
底座材料
聚碳酸酯 PC
底座直徑（公制）
107.95 mm
應用領域
CMP, 晶圓製造, 清潔墊, 進階節點（記憶體和邏輯）
產品系列
PB32A, PB33A, PB52A
產品類型
刷子
研磨材料
Nylon Fibers
鑽石工作面
整面型
